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可加工22nm芯片!国产“超分辨光刻装备”通过验收

2018-11-30 16:58 出处:www.pedaleadas.com 人气: 评论(0
11月30日消息 相信有了解的朋友都清楚,我国在光刻机等领域长期处于落后状态。而据最新消息显示,国家重大科研装备研制项目 超分辨光刻装备研制 已于近日通过验收!那么,这对我国在相关领域的发展有何助力呢?让我们来了解一下。

可加工22nm芯片!国产“超分辨光刻装备”通过验收

据悉,该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。

按照官方的说法,该装备也为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等领域提供了制造工具。此外,还有分析人士指出,此次通过验收的 表面等离子体超分辨光刻装备 拥有完全自主知识产权,打破了国外在高端光刻装备领域的垄断,并为纳米光学加工提供了全新的解决途径!那么,你怎么看呢?

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本文标签: 光刻分辨验收芯片装备

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